半導体EDIモジュール

半導体工場で使用される水は電子グレードの超純水と呼ばれます。要件は製薬工場や発電所よりも高いです。イオンはありません。粒子はありません。細菌はありません。有機物はありません。溶存酸素はありません。抵抗率は 1,820 万オーム-センチメートルでなければなりません。この仕事のために半導体ediモジュールが作られています。流量は1時間あたり0～5トンです。この範囲は、ほとんどの半導体生産ラインに適合します。 1 つのチップ工場では、複数のモジュールを組み合わせて使用​​して、1 時間あたり 10、20、または 50 トンの生産量を得ることができます。

コンピューターチップには何十億もの小さなトランジスタが搭載されています。 1 つのイオンまたは 1 つの粒子がチップ上に到達すると、短絡や接続の切断が発生する可能性があります。そのチップは壊れています。したがって、ウェーハの洗浄に使用される水は可能な限り純粋でなければなりません。 RO水は十分に純粋ではありません。 2 番目のステップとして EDI が必要です。当社の半導体ediモジュールは最高級のイオン交換膜と樹脂を使用しています。出力品質は安定しています。上がったり下がったりはしません。当社は多くのエレクトロニクス工場にサービスを提供してきました。私たちは彼らの基準がいかに高いかを知っています。

当社の製品の出力抵抗率は 1,820 万オーム-センチメートルで安定しています。 TOC は 1 ppb 未満になる場合があります。粒子は 1 ミリリットルあたり 1 個未満になる場合があります。これらの数値は半導体業界の基準を満たしています。すべてのモジュールは工場から出荷される前に厳格なテストを受けます。完全なテストレポートが得られます。安心してモジュールをご使用いただけます。もっと水が必要ですか?複数のモジュールを並べて配置します。各モジュールは 1 時間あたり 0 ～ 5 トンの処理を行います。 10 個のモジュールで 1 時間あたり 0 ～ 50 トンの生産が可能です。工場の成長に合わせて簡単にスケールアップできます。